ガブリエルフタルイミド合成:反応機構、限界、JEE/NEET問題
要点:フタルイミドはKOHで脱プロトン化され(N–HのpKa ≈ 8.3)、そのアニオンが第一級ハロゲン化アルキルによってアルキル化(SN2)され、ヒドラジン(または加水分解)で第一級アミンが遊離します。N-アルキルフタルイミドはそれ以上アルキル化されないため、第二級・第三級アミンは生じません。
ガブリエルフタルイミド合成とは?
アンモニアとハロゲン化アルキルからは、第一級・第二級・第三級アミンと第四級アンモニウム塩の混合物が生じます。ガブリエル合成では、アルキル基を1つしか受け取れない保護されたNH2としてフタルイミドを使うことで、これを避けます。
テンプレートには、脱プロトン化、SN2アルキル化、最初のヒドラジンの攻撃が描かれています。開いて臭化ベンジルを別の第一級ハロゲン化物に置き換えてみましょう。
反応の概要
| 出発物質 | フタルイミド(ベンゼン-1,2-ジカルボキシイミド) |
|---|---|
| ステップ1 | KOH(エタノール溶液)→ フタルイミドカリウム |
| 段階2 | R–X(メチル、第一級;SN2)→ N-アルキルフタルイミド |
| 段階3 | N2H4(Ing–Manske法)またはH3O+/OH− → R–NH2 |
| 得られるもの | 純粋な第一級脂肪族アミンのみ |
反応機構を段階ごとに
- 脱プロトン化。水酸化物イオンがN–Hのプロトンを引き抜きます。生じたアニオンは両方のカルボニル酸素への非局在化によって安定化されるため、フタルイミドは酸性を示します。
- N-アルキル化(SN2)。イミドの窒素がハロゲン化アルキルの炭素を背面から攻撃し、臭化物イオンを追い出します。生成物のN-アルキルフタルイミドにはN–Hが残っていません。
- ヒドラジン分解。ヒドラジンが一方のカルボニルを攻撃し(付加–脱離)、続いて分子内でもう一方を攻撃します。6員環のフタルヒドラジドが脱離し、第一級アミンが遊離します。
テンプレートのすべての段階は電子1つずつ検証済みです:巻き矢印からは、描かれているとおりの構造が得られます。MolDrawで開いて、矢印を1段階ずつたどってみましょう。
例題
- 臭化ベンジル → ベンジルアミン。テンプレートの例です。
- 臭化エチル → エチルアミン。メチルまたは第一級ハロゲン化物ならどれでも使えます。
- ブロモ酢酸エチル → グリシン。ガブリエル–マロン酸エステル法の変法でα-アミノ酸が得られます。
- 不可能:アニリン、tert-ブチルアミン。ハロゲン化アリールはSN2を起こさず、第三級ハロゲン化物は代わりに脱離を起こします。
JEE・NEET演習問題
問1.ガブリエルフタルイミド合成で合成できないアミンはどれですか?
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アニリン — クロロベンゼンはフタルイミドアニオンとSN2反応を起こしません。
問2.フタルイミドが酸性なのはなぜですか?
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N–Hが2つのC=O基に挟まれているため、共役塩基が共鳴安定化されるからです。 — pKa ≈ 8.3なので、KOHで完全に脱プロトン化されます。
問3.ガブリエル合成で第一級アミンしか得られないのはなぜですか?
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N-アルキルフタルイミドにはN–Hがなく、窒素も求核性を持たないため、2回目のアルキル化が起こらないからです。 — NH3 + R–Xとは異なります。
問4.穏やかな条件でアミンを遊離させる試薬はどれですか?
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N2H4 — ヒドラジン分解(Ing–Manske法)でアミンとフタルヒドラジドが得られます。
よくある間違い
- 芳香族アミンを合成しようとする — アルキル化はSN2です。
- 第二級・第三級ハロゲン化物を使う:第二級は反応性が低く、第三級は脱離を起こします。
- 最後の遊離段階(ヒドラジンまたは加水分解)を忘れる。
この反応機構をMolDrawで編集する
- Open in MolDrawをクリックします。エディターが開き、全体の反応式、番号付きの各段階、要点を含む図全体がキャンバスに表示されます。
- すべて通常の構造式です。置換基を変えたり、原子の色を変えたり、矢印を動かしたりしても、矢印は原子に付いたままです。
- PNG、SVG、PDFでダウンロードしたり、ノートやスライドにコピーしたりできます。
- 同じ図はエディターのTemplates → Schemes → Name reactionsにもあります。
よくある質問
フタルイミドカリウムとハロゲン化アルキルの生成物は何ですか?
N-アルキルフタルイミドです。ヒドラジン分解または加水分解により第一級アミンが得られます。
ヒドラジン分解の副生成物は何ですか?
フタルヒドラジド(2,3-ジヒドロフタラジン-1,4-ジオン)です。
ガブリエル合成はSN1ですか、SN2ですか?
SN2です。メチルおよび第一級ハロゲン化物が最も適しています。